等离子刻蚀工艺

干法刻蚀技术是一个非常广泛的概念。所有不涉及化学腐蚀液体的刻蚀技术或者材料加工技术都是干法，刻蚀则代表材料的加工是从表面通过逐层剥离的方法形成事先设计的图形或结构。在所有的干法加工技术中，等离子刻蚀技术是应用较广泛的，也是微纳米加工能力较强的技术。它是在等离子体中发生的，等离子体是在电场作用下产生的。对气体通电，使气体被电离，随着气体分子的大量电离，气体由初期的绝缘状态变为导电状态，有电流通过，形成电场。同时空间的自由电子也会不断与气体离子碰撞复合，恢复为气体原子。zui终电离与复合达到平衡态，在空间形成等离子体。气体离子恢复到原子态会以光子形式释放能量，产生辉光，所以产生等离子体的过程又称为辉光放电过程。

如上所诉，等离子刻蚀过程是一个非常复杂的物理与化学过程，有多种可调控的参数，例如气体流量，压力与放电功率等。每一个参数都会在某种程度上影响后期的刻蚀效果。一次成功的刻蚀取决于如何调整上述参数以实现所需的抗蚀比，刻蚀速率和均匀性。